VACUUM DEVICE磁控濺射沉積設備的使用流程

產生等離子體的氣體

氬氣主要用作真空設備中產生等離子體所必需的氣源。
使用氬氣是因為它具有惰性，不易與其他元素發生化學反應，濺射率高。
它的另一個特點是廣泛使用價格低廉的高純度氣體。

第一次電離

當在電極之間施加超過一定水平的電壓時，熱電子從陽極側發射。
當這些熱電子與氬氣碰撞時，更多的電子在連鎖反應中一個接一個地被射出并電離，使氬氣變成正離子。這時，電離的電子在試圖恢復到原來的狀態時會發光。這就是等離子看起來有光澤的原因。

磁控管等離子體狀態

在等離子體中，預電離的氬原子、發射的電子和正電離的氬原子處于不穩定和混亂的狀態。 發射出的電子被磁控管的磁力線俘獲，一邊反復做圓周運動，一邊與氬氣分子一個接一個地反復碰撞。磁控管的濺射效率好，是因為電子被磁場捕獲，促進了氬氣的電離。 磁控濺射的等離子體局部明亮，因為那里磁場集中，經常發生電離。

濺射

正電離的氬氣被吸引到帶負電的靶表面并與其高速碰撞。
靶材金屬粒子因與靶材的碰撞力而濺射而出。 噴射出的目標金屬顆粒在與氣體分子碰撞的同時到達樣品。 當金屬顆粒相互碰撞時，一些顆粒會生長。 將粉雪落在樣本上的圖像是個好主意。 最終到達樣品的金屬顆粒一個接一個聚集形成薄膜。 由于粒徑因金屬的種類而異，因此需要選擇適合的金屬來制作所需的薄膜。

概括

• 在等離子體中，氣體分子和負離子處于不穩定狀態。

• 當電離的負離子試圖恢復到原來的狀態時發光。

• 加上正離子與負靶碰撞。

• 散落的目標金屬顆粒與氣體分子碰撞并聚集在樣品上。

• 不同的金屬有不同的粒徑。

相關產品介紹

設備	特征	目標金屬
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設備	特征	目標金屬
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