這款設備無需真空系統,在大氣壓下即可穩定運行,通過紫外光激發臭氧,配合加熱臺面的溫度控制,實現對硅、玻璃、GaN/GaAs/InP/SiC 等化合物半導體、藍寶石、陶瓷基板的有機物高效去除。可處理 φ100 mm 基板及 4 英寸晶圓,加熱臺面不僅能加快清洗速率,還能模擬實際制程溫度,讓工藝結果更貼近生產場景。
SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗機在設計上充分考慮了工業使用的安全性與便捷性:配備上蓋連鎖機制,上蓋開啟時系統無法運行,避免誤操作;自帶臭氧分解裝置,確保排氣時臭氧濃度降至安全范圍;同時支持自動 N? purge 循環、加熱臺面保險絲保護、臭氧洗滌及緊急停止按鈕,保障生產安全。
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